氧研美日護潔凈氨基酸潔面乳
品牌:氧研
分類:潔面乳
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
椰油酰甘氨酸鈉
SODIUM COCOYL GLYCINATE
皮膚調理,頭髮調理,增泡劑,清潔劑,表面活性劑 1
檸檬酸
CITRIC ACID
去黑頭,去角質,保濕,螯合劑,pH調節劑 1-2
月桂酰谷氨酸鈉
SODIUM LAUROYL GLUTAMATE
頭髮調理,增泡劑,抗靜電,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
椰油酰甘氨酸鉀
POTASSIUM COCOYL GLYCINATE
頭髮調理,增泡劑,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
水解玉米澱粉
HYDROLYZED CORN STARCH
皮膚調理,保濕,粘合劑,黏度控制 1
丙烯酸(酯)類共聚物
ACRYLATES COPOLYMER
成膜劑,抗靜電,粘合劑 2
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
氯化鈉
SODIUM CHLORIDE
皮膚調理,口腔護理,填充劑,增稠劑,穩定劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
甘油油酸酯
GLYCERYL OLEATE
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1
山梨坦辛酸酯
SORBITAN CAPRYLATE
表面活性劑,乳化劑 1
氯化鉀
POTASSIUM CHLORIDE
增稠劑,黏度控制,pH調節劑 1
α-葡聚糖寡糖
ALPHA-GLUCAN OLIGOSACCHARIDE
皮膚調理,清潔劑 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
尿囊素
ALLANTOIN
修護,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,收斂,頭髮調理,保濕 1
甘草酸二鉀
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
祛痘,舒敏,皮膚調理,保濕 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
連翹(FORSYTHIA SUSPENSA)果提取物
FORSYTHIA SUSPENSA FRUIT EXTRACT
抗氧化 1
野葛(PUERARIA LOBATA)根提取物
PUERARIA LOBATA ROOT EXTRACT
美乳,皮膚調理,保濕 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,增溶劑,溶劑 1
知母(ANEMARRHENA ASPHODELOIDES)根提取物
ANEMARRHENA ASPHODELOIDES ROOT EXTRACT
皮膚調理,抗氧化 1
水解透明質酸鈉
HYDROLYZED SODIUM HYALURONATE
皮膚調理,頭髮調理,保濕 1
菊粉
INULIN
皮膚調理,保濕 1
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑,溶劑 1
乳酸桿菌/豆漿發酵產物濾液
LACTOBACILLUS/SOYMILK FERMENT FILTRATE
皮膚調理
果糖
FRUCTOSE
保濕 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。